SISTEMI DI PULIZIA DEI NASTRI IN MOVIMENTO

La tecnologia di pulizia Teknek si basa su un sistema a rulli e comporta le seguenti fasi.

• Un rullo di elastomero gira a contatto con il substrato da pulire.
• Quindi un rotolo adesivo gira a contatto con il rullo di elastomero.
• I contaminanti passano dal rullo di elastomero al rotolo adesivo, ove aderiscono senza essere ritrasferiti al rullo di elastomero, poiché la superficiale del rotolo adesivo è superiore all'energia superficiale del rullo di elastomero.
  

Grazie al movimento inverso del rotolo adesivo, quando il carico di contaminanti sulla superficie adesiva raggiunge la massima area di copertura, è sufficiente srotolare di un giro il rotolo e tagliare la parte contaminata, scoprendo la superficie adesiva pulita da mettere a contatto con il rullo di elastomero.

I notevoli investimenti di Teknek nella ricerca e nello sviluppo degli ultimi 20 anni sono garanzia di performance ottimale dei rulli di elastomero e dei rotoli adesivi.

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Aggiornato il: 28 November 2005